Homogeneity of oxynitride thin films deposited by reactive RF magnetron sputtering - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00606924 , version 1 (07-07-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00606924 , version 1

Citer

Yu Lu, Claire Le Paven-Thivet, Ratiba Benzerga, Laurent Le Gendre, Ala Sharaiha, et al.. Homogeneity of oxynitride thin films deposited by reactive RF magnetron sputtering. European Materials Research Society - Spring Meeting 2011, May 2011, Nice, France. ⟨hal-00606924⟩
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