Reactive sputtering deposition of perovkite LaTiO<sub>x</sub>N<sub>y</sub> films using a stoechimetric oxynitride LaTiO<sub>x</sub>N<sub>y</sub> target - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2011

Reactive sputtering deposition of perovkite LaTiOxNy films using a stoechimetric oxynitride LaTiOxNy target

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Matériaux

Laurent Le Gendre  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00606953

Soumis le : jeudi 7 juillet 2011-15:12:07

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:14

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00606953 , version 1 (07-07-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00606953 , version 1

Citer

Claire Le Paven-Thivet, Ratiba Benzerga, Yu Lu, Ahmed Ziani, Laurent Le Gendre, et al.. Reactive sputtering deposition of perovkite LaTiOxNy films using a stoechimetric oxynitride LaTiOxNy target. 1ST WORKSHOP NIMS-UR1 ON "MATERIALS AND SUSTAINABLE DEVELOPMENT: ISSUES AND CHALLENGES OF THE 21ST CENTURY", May 2011, Rennes, France. ⟨hal-00606953⟩

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