A gradual annealing of amorphous sputtered ITO: crystalline structure and electrical characteristics - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2012

A gradual annealing of amorphous sputtered ITO: crystalline structure and electrical characteristics

Dates et versions

hal-00682354 , version 1 (25-03-2012)

Identifiants

Citer

Gérard Legeay, Xavier Castel. A gradual annealing of amorphous sputtered ITO: crystalline structure and electrical characteristics. Thin Solid Films, 2012, 520, pp.4021-4025. ⟨10.1016/j.tsf.2012.01.029⟩. ⟨hal-00682354⟩
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