Beneficial effect of very thin active layer on the performance of microcrystalline silicon TFT - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue ECS Transactions Année : 2012
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00804867 , version 1 (26-03-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00804867 , version 1

Citer

Mamadou Lamine Samb, Emmanuel Jacques, Khalid Kandoussi, Khaled Belarbi, Nathalie . Coulon, et al.. Beneficial effect of very thin active layer on the performance of microcrystalline silicon TFT. ECS Transactions, 2012, 49 (1), pp.59-67. ⟨hal-00804867⟩
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