Structural and dielectric characterization of perovskite oxide and oxynitride lanthanum titanium films deposited by reactive sputtering deposition

Claire Le Paven-Thivet (1) , Yu Lu (1) , Hung Nguyen (1, 2) , Ratiba Benzerga (1) , Laurent Le Gendre (1) , Ala Sharaiha (1) , Christophe Delaveaud (2) , Xavier Castel (1) , Franck Tessier (3) , François Cheviré (3)

1 IETR - Institut d'Électronique et des Technologies du numéRique
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
3 ISCR - Institut des Sciences Chimiques de Rennes

Domains: Engineering Sciences [physics]; Materials

Claire Le Paven-Thivet, Yu Lu, Hung Nguyen, Ratiba Benzerga, Laurent Le Gendre, et al.. Structural and dielectric characterization of perovskite oxide and oxynitride lanthanum titanium films deposited by reactive sputtering deposition. 19th International Vacuum Congress (IVC-19), Sep 2013, Paris, France. ⟨hal-00869768⟩