High frequency dielectric characterization of high-k thin films - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

High frequency dielectric characterization of high-k thin films

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01079021 , version 1 (30-10-2014)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01079021 , version 1

Citer

Kevin Nadaud, Hartmut W. Gundel, Raphaël Gillard, Caroline Borderon, Erwan Fourn. High frequency dielectric characterization of high-k thin films. ECAPD, Jul 2014, Vilnius, Lithuania. ⟨hal-01079021⟩
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