Decreasing the thickness of active layer of microcrystalline silicon TFTs - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue physica status solidi (c) Année : 2010

Dates et versions

hal-00506587 , version 1 (28-07-2010)

Identifiants

Citer

Khaled Belarbi, Khalid Kandoussi, Ismaïl Souleiman, Claude Simon, Nathalie . Coulon, et al.. Decreasing the thickness of active layer of microcrystalline silicon TFTs. physica status solidi (c), 2010, 7 (3-4), pp.1152-1155. ⟨10.1002/pssc.200982665⟩. ⟨hal-00506587⟩
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