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Communication Dans Un Congrès Année : 2010

TP d'initiation à la lithographie AFM : application à la fabrication de résistance à partir de nano-ruban de silicium amorphe

Yolande Sambin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00623471

Soumis le : mercredi 14 septembre 2011-13:01:51

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:54

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00623471 , version 1 (14-09-2011)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00623471 , version 1

Citer

Laurent Pichon, Régis Rogel, Hervé Lhermite. TP d'initiation à la lithographie AFM : application à la fabrication de résistance à partir de nano-ruban de silicium amorphe. 11e Journées Pédagogiques Nationales du Comité National de Formation en Micro-nanoélectronique, Nov 2010, Saint-Malo, France. ⟨hal-00623471⟩

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