Microcrystalline silicon CMOS electronics fabricated directly on PEN sheets at T<180°C, holding very high deformation - Université de Rennes Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2013

Microcrystalline silicon CMOS electronics fabricated directly on PEN sheets at T<180°C, holding very high deformation

Katell Kervella  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00905409

Soumis le : lundi 18 novembre 2013-11:24:16

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:57

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00905409 , version 1 (18-11-2013)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00905409 , version 1

Citer

Sabri Janfaoui, Claude Simon, Nathalie . Coulon, Tayeb Mohammed-Brahim. Microcrystalline silicon CMOS electronics fabricated directly on PEN sheets at T<180°C, holding very high deformation. PE2013, SEMICond Europa 2013, Integrated Smart Systems Symposium, Oct 2013, Messe Dresden, Germany. ⟨hal-00905409⟩

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