Study of the Post-nitridation of Strontium and Tantalum Based Oxide and Oxynitride Thin Films

Type de document :
Poster
9th International Symposium on Nitrides and Related Materials (ISNT2017), Aug 2017, Sapporo, Japan
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Contributeur : Ratiba Benzerga <>
Soumis le : vendredi 15 septembre 2017 - 08:33:23
Dernière modification le : vendredi 25 mai 2018 - 01:25:41

Identifiants

  • HAL Id : hal-01588050, version 1

Citation

Florent Marlec, Laurent Le Gendre, Claire Le Paven, François Cheviré, Ratiba Benzerga, et al.. Study of the Post-nitridation of Strontium and Tantalum Based Oxide and Oxynitride Thin Films. 9th International Symposium on Nitrides and Related Materials (ISNT2017), Aug 2017, Sapporo, Japan. 〈hal-01588050〉

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